Medição em Linha da Solução de Revestimento
Os analisadores de galvanoplastia da Optek são equipamentos inline desenvolvidos para a medição contínua e em tempo real da concentração de metais na solução de revestimento.
Esses analisadores podem ser configurados para atender praticamente qualquer faixa de concentração, conforme as necessidades específicas do processo.
Em termos operacionais, o equipamento emite um feixe de luz branca que atravessa a solução de revestimento em monitoramento. A absorbância óptica é então medida em dois comprimentos de onda distintos. A diferença entre os valores de absorbância nesses dois comprimentos de onda é correlacionada diretamente à concentração do metal na solução de revestimento.
Medição em Dois Comprimentos de Onda – Maior Precisão e Confiabilidade
A medição em dois comprimentos de onda oferece desempenho superior em comparação à medição em comprimento de onda único.
Um diferencial do analisador de galvanoplastia da Optek é a capacidade de monitorar simultaneamente a absorbância óptica em dois comprimentos de onda distintos.
O comprimento de onda principal é definido no pico ou próximo ao pico da curva de absorção da solução de revestimento, assegurando maior sensibilidade às variações de concentração. O comprimento de onda secundário é selecionado para compensar interferências decorrentes da dispersão de luz, tais como:
- Incrustação na janela óptica
- Presença de partículas ou sólidos suspensos
- Formação de bolhas de gás
Com essa tecnologia de medição diferencial, o analisador fornece valores de concentração altamente repetíveis e confiáveis, mesmo sob condições severas de processo, garantindo monitoramento contínuo em tempo real.
Monitoramento da Solução de Galvanoplastia
A galvanoplastia é um processo eletroquímico no qual uma corrente elétrica é aplicada através de uma solução contendo sais metálicos, com o objetivo de promover a deposição de uma camada de metal sobre um substrato imerso nessa solução.
A espessura da camada metálica depositada é função de três variáveis principais:
- Tempo de deposição
- Intensidade da corrente elétrica
- Concentração do metal na solução
Assim, para uma determinada intensidade de corrente elétrica, o conhecimento da concentração de metal na solução de revestimento em tempo real permite ao operador estimar com precisão o tempo necessário para atingir a espessura de camada especificada.
Adicionalmente, o monitoramento contínuo da solução possibilita a implementação de controle automatizado dos sistemas de dosagem de sais metálicos, mantendo a concentração no ponto de ajuste estabelecido para o processo.
Esse conjunto oferece as seguintes vantagens:
- Medição contínua e em tempo real da concentração da solução de galvanoplastia
- Medição independente da vazão ou da velocidade de escoamento do fluido
- Possibilidade de integrar dois pontos de medição independentes em um único transmissor C4422
- Certificação ATEX, permitindo instalação em Zona 1 (EPL Gb) ou Zona 2 (EPL Gc)
- Conformidade com IECEx
- Certificação FM para instalação em áreas Classe I, Divisão 1 ou Classe I, Divisão 2
- Monitoramento independente do comprimento de onda de referência, com indicação em tempo real de incrustação nas janelas ópticas ou contaminação do banho
- Filtro de validação rastreável ao NIST, possibilitando verificação online do desempenho do sensor
- Lâmpada com filamento de tungstênio, proporcionando longa vida útil e estabilidade de emissão luminosa
Metais comumente monitorados em processos de galvanoplastia
As principais soluções de sais metálicos monitoradas incluem:
- Cobre, Níquel, Cromo, Zinco, Cádmio, Ouro, Prata e Estanho.
Solução de banho de galvanoplastia à base de sulfato de cobre, com concentração de 221,1 g/L, sendo monitorada em tempo real.
A Chema Technology utiliza o Analisador de Banho de Galvanoplastia da Optek para monitorar, em tempo real, a concentração de sulfato de cobre, garantindo o controle preciso do sistema de alimentação DisCoP.
Sensor optek AF26-VB, modelo de canal duplo, equipado com corpo de processo em TFMC (Teflon Molded Connection), indicado para aplicações em soluções químicas agressivas.
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